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當(dāng)前位置:首頁(yè)公司新聞雙光子設(shè)備可應(yīng)用于哪些科研與工業(yè)場(chǎng)景?

雙光子設(shè)備可應(yīng)用于哪些科研與工業(yè)場(chǎng)景?

更新時(shí)間:2026-06-08點(diǎn)擊次數(shù):56
  雙光子設(shè)備是依托雙光子吸收效應(yīng)研發(fā)的高精度光電科研設(shè)備,主要分為雙光子顯微成像系統(tǒng)與雙光子微納加工系統(tǒng)兩大類型,是生命科學(xué)、材料工程、精密制造領(lǐng)域的核心裝置。該設(shè)備利用近紅外飛秒激光實(shí)現(xiàn)非線性光學(xué)激發(fā),突破了傳統(tǒng)單光子成像與加工的技術(shù)局限,可在不損傷活體樣本、不破壞材料表層結(jié)構(gòu)的前提下,完成深層成像與三維微納結(jié)構(gòu)加工,是微觀領(lǐng)域精細(xì)化研究與精密制備的重要工具。
  傳統(tǒng)光學(xué)設(shè)備多采用單光子激發(fā)模式,存在光損傷大、成像深度淺、背景干擾多、易出現(xiàn)光漂白等問(wèn)題,難以適配活體動(dòng)態(tài)觀測(cè)、厚組織成像、超精細(xì)微納加工的需求。雙光子設(shè)備憑借獨(dú)特的非線性激發(fā)特性,僅在激光聚焦焦點(diǎn)處產(chǎn)生有效激發(fā)反應(yīng),非聚焦區(qū)域無(wú)額外光刺激,大幅降低了光毒性與結(jié)構(gòu)損傷。同時(shí)近紅外光源的組織穿透性更強(qiáng),能夠?qū)崿F(xiàn)深層微觀探測(cè)與立體加工,有效彌補(bǔ)了傳統(tǒng)光學(xué)設(shè)備的技術(shù)短板,應(yīng)用場(chǎng)景更為廣泛。
  一、主要用途
  雙光子設(shè)備的應(yīng)用覆蓋科研與精密工業(yè)兩大領(lǐng)域。在生命科學(xué)研究中,主要用于活體動(dòng)物成像、腦組織神經(jīng)動(dòng)態(tài)觀測(cè)、細(xì)胞鈣信號(hào)追蹤、血管血流動(dòng)態(tài)監(jiān)測(cè)等工作,可實(shí)現(xiàn)小動(dòng)物長(zhǎng)時(shí)間、多次重復(fù)活體成像,助力神經(jīng)生物學(xué)、病理學(xué)、藥理學(xué)的機(jī)制研究。在生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域,可用于組織切片深層掃描、熒光標(biāo)記樣本三維重構(gòu),為疾病機(jī)理研究與藥物研發(fā)提供數(shù)據(jù)支撐。在材料與精密制造領(lǐng)域,依托雙光子聚合技術(shù),可完成超精細(xì)三維微納結(jié)構(gòu)加工、光敏材料立體成型、微器件制備,適配微機(jī)電系統(tǒng)、光學(xué)器件、生物芯片的精密加工需求。此外,該設(shè)備也廣泛應(yīng)用于高??蒲衅脚_(tái)、重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室的基礎(chǔ)研究與技術(shù)創(chuàng)新工作。
  二、核心結(jié)構(gòu)組成
  一套完整的雙光子設(shè)備由多套精密模塊協(xié)同組成,核心部件穩(wěn)定性直接決定設(shè)備精度。一是飛秒激光光源模塊,作為核心激發(fā)單元,輸出特定波段近紅外脈沖激光,具備短脈沖、高峰值功率的特性,滿足雙光子非線性激發(fā)條件。二是光束掃描模塊,以高速振鏡系統(tǒng)為核心,可精準(zhǔn)控制激光光束的二維掃描路徑,配合Z軸位移結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)三維空間掃描。三是高精度光學(xué)成像模塊,包含專用高數(shù)值孔徑物鏡、二向色鏡、濾光片與光電倍增探測(cè)器,負(fù)責(zé)信號(hào)收集、分光與成像轉(zhuǎn)換。四是精密位移平臺(tái),可實(shí)現(xiàn)樣本微米級(jí)精準(zhǔn)移動(dòng),保障成像與加工位置精度。五是智能控制模塊,依托專業(yè)軟件完成參數(shù)調(diào)控、圖像采集、數(shù)據(jù)運(yùn)算與三維模型重建。
  三、設(shè)備核心特點(diǎn)
  雙光子設(shè)備具備諸多差異化性能優(yōu)勢(shì)。首先是低損傷特性,非焦點(diǎn)區(qū)域無(wú)激發(fā)反應(yīng),有效減少光漂白與光毒性,適配脆弱活體樣本的長(zhǎng)時(shí)間觀測(cè)。其次是探測(cè)深度大,近紅外激光散射損耗小,可實(shí)現(xiàn)厚組織深層成像,突破傳統(tǒng)設(shè)備的淺層成像局限。同時(shí)設(shè)備成像信噪比高,背景干擾少,成像分辨率與對(duì)比度優(yōu)異,能夠清晰呈現(xiàn)微觀結(jié)構(gòu)細(xì)節(jié)。在加工層面,可突破光學(xué)衍射極限,實(shí)現(xiàn)超高精度三維立體加工,成型精度高、結(jié)構(gòu)規(guī)整,適配各類復(fù)雜微納器件制備。整體設(shè)備運(yùn)行穩(wěn)定,參數(shù)可調(diào)范圍廣,可適配不同樣本與實(shí)驗(yàn)工況。
  四、標(biāo)準(zhǔn)化使用方法
  設(shè)備使用需遵循標(biāo)準(zhǔn)化操作流程。實(shí)驗(yàn)前期,提前調(diào)試設(shè)備,開(kāi)啟光源預(yù)熱,完成光路校準(zhǔn)與參數(shù)初始化,根據(jù)實(shí)驗(yàn)需求匹配對(duì)應(yīng)的物鏡與濾光組件,檢查設(shè)備各模塊運(yùn)行狀態(tài)。隨后規(guī)范制備樣本,保證樣本潔凈、固定穩(wěn)定,放置于精密位移平臺(tái)并完成位置校準(zhǔn)。實(shí)驗(yàn)過(guò)程中,逐步調(diào)控激光功率、掃描速度、成像層數(shù)等參數(shù),從低參數(shù)起步調(diào)試,避免參數(shù)過(guò)高損傷樣本,按照預(yù)設(shè)路徑完成掃描成像或微納加工。實(shí)驗(yàn)結(jié)束后,逐步降低激光功率、關(guān)閉光源,保存實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)與圖像模型,清理設(shè)備工作臺(tái)面,做好設(shè)備待機(jī)與防塵防護(hù),登記實(shí)驗(yàn)使用記錄。
  隨著生命科學(xué)研究深入與精密制造技術(shù)升級(jí),微觀領(lǐng)域的觀測(cè)與加工需求持續(xù)向高精度、低損傷、三維化方向發(fā)展。雙光子設(shè)備憑借獨(dú)特的非線性光學(xué)優(yōu)勢(shì),打破了傳統(tǒng)光學(xué)設(shè)備的技術(shù)壁壘,成為活體動(dòng)態(tài)研究、深層組織成像、微納精密加工的核心裝備。嚴(yán)格遵循操作規(guī)范、做好日常設(shè)備養(yǎng)護(hù)與光路校準(zhǔn),能夠持續(xù)保障設(shè)備精度與運(yùn)行穩(wěn)定性,持續(xù)為生物科研、新材料研發(fā)、精密器件制造等領(lǐng)域的創(chuàng)新發(fā)展提供堅(jiān)實(shí)的技術(shù)支撐。
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